4 iyun kuni OAV xabarlariga ko'ra, Belgiya Mikroelektronika Tadqiqot Markazi (IMEC) va ASML Niderlandiyaning Veldxoven shahrida qo'shma High NA EUV Litografiya Laboratoriyasini tashkil etishini e'lon qildi.
Ko'p yillik puxta qurilish va integratsiyadan so'ng, ushbu laboratoriya hozirda to'liq tayyor bo'lib, etakchi global mantiqiy va saqlash chiplari ishlab chiqaruvchilariga, shuningdek, ilg'or materiallar va uskunalar yetkazib beruvchilariga zamonaviy texnik yordam beradi.
Laboratoriyadagi asosiy uskuna - bu yuqori raqamli diafragmali EUV skanerining prototipi (TWINSCAN EXE: 5000) va unga qo'shimcha ishlov berish va o'lchash asboblari bilan birgalikda kelajakda chiplar ishlab chiqarishda yutuqlarga hissa qo'shadi.
Ushbu qo'shma laboratoriyaning ochilishi yuqori NA EUV texnologiyasini ommaviy ishlab chiqarishga tayyorgarlik jarayonida muhim bosqich sifatida qaraladi. Sanoat ushbu texnologiyaning uzluksiz etukligi va ommalashishi bilan 2025 va 2026 yillar oralig'ida keng ko'lamli ommaviy ishlab chiqarish dasturlarini ishga tushirishini kutmoqda.
Shuni ta'kidlash kerakki, Asma ilgari High NA EUV litografiya mashinalarining so'nggi avlodini ommaga namoyish qilgan. Ushbu litografiya mashinasi katta hajmga ega, ikki qavatli avtobusga teng va og'irligi 150 tonnagacha.
O'zining ulkan hajmi va murakkab yig'ish jarayoni tufayli uskunani tashish uchun 250 ta alohida Yassi noodlega quyib qadoqlash kerak, bu esa ishlab chiqarish va tashish jarayonida uning favqulodda qiyinchiliklarini ko'rsatadi.
Xabar qilinishicha, 350 million evro (taxminan 2,7 milliard yuan)ga baholangan High NA EUV litografiya mashinasining yuqori ishlab chiqarish narxiga qaramay, uning yarimo'tkazgich ishlab chiqarish sohasidagi qiymati beqiyos. Bu dunyodagi uchta yirik gofret ishlab chiqaruvchilari uchun 2nm dan past bo'lgan ilg'or jarayonlarni keng miqyosda ishlab chiqarishga erishish uchun muhim qurolga aylanadi.